GB/T 6621-1995 硅抛光片表面平整度测试方法
作者:标准资料网
时间:2024-05-28 08:45:48
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基本信息
| 标准名称： | 硅抛光片表面平整度测试方法 |
| 英文名称： | Test methods for surface flatness of silicon polished slices |
| 中标分类： | 冶金 >> 金属理化性能试验方法 >> 金属物理性能试验方法 |
| ICS分类： | |
| 替代情况： | GB 6621-1986;被GB/T 6621-2009代替 |
| 发布部门： | 国家技术监督局 |
| 发布日期： | 1995-04-18 |
| 实施日期： | 1995-01-02 |
| 首发日期： | 1986-07-26 |
| 作废日期： | 2010-06-01 |
| 主管部门： | 国家标准化管理委员会 |
| 归口单位： | 全国半导体材料和设备标准化技术委员会 |
| 起草单位： | 电子部标准化所 |
| 出版社： | 中国标准出版社 |
| 出版日期： | 1900-01-01 |
| 页数： | 平装16开， 页数：11， 字数：21千字 |
适用范围
本标准规定了用相干光的干涉现象测量硅抛光片表面平整度的方法。本标准适用于检测硅抛光片的表面平整度，也适用于检测硅外延片和类镜面状半导体晶片的表面平整度。
前言
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目录
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引用标准
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所属分类： 冶金 金属理化性能试验方法 金属物理性能试验方法
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